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試作・研究開発

試作・研究開発

黒坂鍍金工業所では、お客様の要望にお応えするため、各種分析装置や各種めっき加工、表面処理の試作、研究開発用、実験室を備えており、さまざまなサービスに対応しております。
めっき加工、表面処理のことなら、何でもお気軽にご相談下さい。また、委託分析も有償でお引受け できますので何なりとご用命下さい。

研究開発の実施例・・・ごく一例ですので詳細はお問い合わせ下さい。

素材

【非導体材料上へのめっき加工】

-樹脂(ABS、ポリカABS、ガラスエポキシ、SiO2フィラ−エポキシ、カーボンエポキシ含浸、PEEK)

  • @非クロム酸エッチングの開発
  • A化学結合(非エッチング)型高密着処理の研究・開発
  • B非パラジウム型低コスト触媒の研究・開発(特許取得済)
  • Cクロムめっき代替合金めっきの開発

-セラミック・ガラス(アルミナ、シリカ、ジルコニア、酸化チタン、窒化タンタル、チタン酸バリウム)

  • @各種材料のエッチング技術開発
  • Aダイレクト金めっき技術開発
  • Bミスマッチ金属材料めっきの研究開発

【メタル及びレアメタル材料上へのめっき加工、化成処理】

-鉄系(窒化鉄、浸炭、焼入れ、SUS303、304、316系や430、440系)

  • @各種材料のエッチング技術開発
  • Aダイレクト無電解ニッケルめっき技術開発
  • BSUS電解発色、不動態化処理の研究

-非鉄系(銅鋳物、亜鉛鋳物、アルミニウム、マグネシウム、二ッケル、銀、金)

  • @高密着前処理法の開発
  • Aダイレクト無電解ニッケルめっき技術開発
  • B3価クロメートの開発
  • C完全導電性アルマイト皮膜の研究

-レアメタル(チタン、タンタル、モリブデン、タングステン)

  • @高密着前処理法の開発
  • Aダイレクトめっき法の開発
  • B陽極酸化被膜の研究

めっき

【特殊機能めっき】

-はんだ付け端子、バンプ

  • @大型基板やフリップチップ基板への無電解Snめっきの試作・開発
  • AシリコンウエハーへのSn-Bi、Sn-Agバンプめっきの開発
  • Bアルミニウム基板(バスバー、インバータ放熱板等)への電解Snめっきの量産・試作・開発
  • C抵抗体(NiCr)へのAuめっき端子めっきの開発

-磁気特性機能(Ni-Fe系)

  • @高周波電磁波シールド向けNiFe(高透磁率)膜の開発
  • A完全非磁性皮膜の研究・開発
  • BLowαタイプめっき皮膜(インバー)の開発

-環境対策

  • @Cr外観代替めっき皮膜(Sn-Co、Ni-Zn等)の開発
  • AZnめっき皮膜の3価クロメート皮膜の研究

【エネルギー】

-電池材料粉黛(Ni-H、Li)へのNiめっきプロセス開発

-太陽電池パネルへのSnめっきの開発

※ご相談いただければ、できる限り対応させていただきます。詳しくは難素材への処理実績をご覧ください

試作・研究開発設備

Lab Photo

SEM/EDX

プラメッキライン

Lab Photo SEM/EDX プラメッキライン
お問い合わせ

黒坂鍍金工業所では、個人様のメッキ加工も承っています。何なりとご相談ください。

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